一、粉磨原理及简介：

　　金属硅专用磨一种针对于金属硅这类高硬度物料而研制的专用粉磨设备。

　　金属硅专用磨为立式结构，物料从磨机上部进入，在工作仓内经过不同结构的制粉介质加工、制粉后被粉碎的物料从磨机下部的出料口出料。金属硅专用磨可以通过转速和介质调节来控制金属硅在制粉过程中无效粉的产生(无效粉越少越好)且成品粉质量好，便于金属硅后期反应工艺。从而大大的降低金属硅制粉企业的生产成本，提高硅粉企业的竞争实力。

　　金属硅专用磨投放市场以来在全国已建成80多条金属硅制粉生产线，均获得使用企业好评。在金属硅制粉行业已成为使用客户最多的制粉设备供应商。使用客户中不乏金属硅制粉行业龙头企业。

　　金属硅专用磨在负粉控制、成品粉质量、使用综合成本、设备稳定性、安全性等方面获得客户好评，气流磨，粉体设备 金属硅是一种质硬易碎的物料，在粉磨过程中筛余物不能有效的控制，过粉磨现象严重，造成产品浪费大，生产成本高，产品粒径不达标，致使产品没有竞争力。多年来硅粉这一老大难的问题一直困扰着广大硅生产企业。 块为原料制取硅粉的方法很多。其中效果较好、应用较多的是雷蒙法，对辊法、盘磨法和冲旋法。所用设备相应是雷蒙法、对辊机、盘磨机(也称立磨)和冲旋法。就制粉原理看，前三种是挤压粉碎，后一种是冲击粉碎，就其结构看，相异很大，各有特色，各有优缺点。

　　活性好的表现有两方面：一是反应迅速，稳定，且易于控制;二是反应完全，单耗低，即合成1t甲基氯硅烷的硅粉耗量低，为了获得高活性的硅粉，必须使高块的制取方法、硅块的化学成分、环境条件及硅硅粉的制取方法都达到最佳水平。事实上，制粉工艺对硅粉活性的影响也很大。判定硅粉活性的标准主要有：硅粉的微观结构、比表面积、粒径分布和生产使用效果，现分述如下： 成分符合要求的金属硅在炼制过程中已获得最佳微观结构，从而保证其拥有参与合成反应的最佳活性。制粉时一定尽量要降低对其微观结构的劣化作用，减少晶粒及晶粒群间的变形，使绝大部分硅粉保持原有的微观结构，以保持或提高其活性。四种方法中，以冲旋法最佳，因为该法是利用凌空击打的方式来使硅块自身循着体内最薄弱的环节碎裂，没有因挤压引起的结构变形。

　　硅粉的比表面积是参与化学反应能力的重要指标。硅粉的比表面积越大，同氯甲烷接触的面积越大，反应活性越高，硅的利用率就越高、单耗就越低;因此，比表面积是判定硅粉活性的一个重要指标。可以看出，采用冲旋法制得的硅粉的比表面积最大。